01.10.2005 • Bildverarbeitung / Optische Messtechnik

AF-Profilometer

Die rasch wachsenden Nano-Wissenschaften und Nano-Technologien erzeugen einen steigenden Bedarf an verlässlichen und unkomplizierten Messsystemen für die Oberflächenmetrologie. Das Nanopics 2100 von LOT-Oriel ist der erste Vertreter einer neuen Geräteklasse. Es vereint die besten Eigenschaften der Stylus-Profilometer und der Kraft-Mikroskope (AFM). Das AF-Profilometer hat sowohl die Messgeschwindigkeit und leichte Handhabbarkeit der Oberflächenprofilometer als auch die Nanometer-Empfindlichkeit bei der Abbildung von Oberflächen, die für AFMs typisch ist. Durch den Einsatz von Spulen-Antrieben für die drei Achsen X, Y und Z anstelle der in AFM gewöhnlich eingesetzten Piezo-Antriebe können sie Objektfelder von bis zu 800 x 800 µm2 schnell und mit hoher Auflösung (0,3 nm) messen.
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