Das QS1200 FTIR-Spektrometer ist von Nanometrics speziell für die Vermessung von Wafern konzipiert worden. Besonderes Augenmerk wurde auf die Bestimmung von Sauerstoff- und Kohlenstoff-Verunreinigungen in Silizium gelegt, eine der komplexesten Messungen für ein FTIR im Halbleiterbereich. Eine weitere verbreitete Anwendung ist die Bestimmung von Fluor in FSGs und Bor/Phosphor in BPSGs. Da neben Transmissions- auch Reflektionsmessungen möglich sind, lassen sich mit dem Gerät ebenfalls Schichtdicken mit hoher Genauigkeit bestimmen. Hoher optischer Durchsatz und hohe Messgenauigkeit werden u.a. durch den großen 2-Strahlteiler garantiert, mehr Licht auf dem Detektor bedeutet ein verbessertes Signal-Rausch-Verhältnis bei gleicher Messdauer. Die optionale GEM/SECS-Software erleichtert im Bedarfsfall die Integration des Gerätes in einen Produktionskreislauf. Mit der Mapping-Funktion lassen sich vollständige Waferkarten automatisch erstellen.